| ชื่อเรื่อง | : | Carbon doped silicon oxides for low k dielectric applications in multilevel interconnects. |
| นักวิจัย | : | Liu, Bo. |
| คำค้น | : | DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering::Electric apparatus and materials. |
| หน่วยงาน | : | Nanyang Technological University, Singapore |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2551 |
| อ้างอิง | : | Liu, B. (2008). Carbon doped silicon oxides for low k dielectric applications in multilevel interconnects. Master’s thesis, Nanyang Technological University, Singapore. , http://hdl.handle.net/10356/4112 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | This project aims at deposition and characterization of carbon doped silicon oxides (SiOCH) low k dieletrics for multilevel interconnect applications. The optical, electrical, mechanical, structural and thermal properties of SiOCH films have been studied. |
| บรรณานุกรม | : |
Liu, Bo. . (2551). Carbon doped silicon oxides for low k dielectric applications in multilevel interconnects..
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Liu, Bo. . 2551. "Carbon doped silicon oxides for low k dielectric applications in multilevel interconnects.".
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Liu, Bo. . "Carbon doped silicon oxides for low k dielectric applications in multilevel interconnects.."
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2551. Print. Liu, Bo. . Carbon doped silicon oxides for low k dielectric applications in multilevel interconnects.. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2551.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
