| ชื่อเรื่อง | : | Comparison of conventional and LDD NMOSFETs hot-carrier degradation in 0.8 μm CMOS technology |
| นักวิจัย | : | นิภาพรรณ กลั่นเงิน |
| คำค้น | : | - |
| หน่วยงาน | : | ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | - |
| อ้างอิง | : | - |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | - |
| บรรณานุกรม | : |
นิภาพรรณ กลั่นเงิน . (). Comparison of conventional and LDD NMOSFETs hot-carrier degradation in 0.8 μm CMOS technology.
กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี. นิภาพรรณ กลั่นเงิน . . "Comparison of conventional and LDD NMOSFETs hot-carrier degradation in 0.8 μm CMOS technology".
กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี. นิภาพรรณ กลั่นเงิน . "Comparison of conventional and LDD NMOSFETs hot-carrier degradation in 0.8 μm CMOS technology."
กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี, . Print. นิภาพรรณ กลั่นเงิน . Comparison of conventional and LDD NMOSFETs hot-carrier degradation in 0.8 μm CMOS technology. กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี; .
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
