อีลิปโซมิตรี (Ellipsometry) เป็นวิธีการวัดและวิเคราะห์ฟิล์มบางเชิงแสงที่ใช้ในการหาความหนาและดัชนีหักเหของฟิล์มบางมากๆ โดยการวัดการเปลี่ยนแปลงของโพลาไลเซชั่นของแสงเนื่องจากการสะท้อนออกจากฟิล์ม แล้วใช้ขบวนการสร้างโมเดล (Modeling Process) ของระบบฟิล์มที่วัดและเปรียบเทียบเส้นกราฟ (curve fitting) ผลการวัดและค่าที่คำนวณได้จาก Model ที่ได้ เพื่อให้ทราบสมบัติต่างๆของฟิล์มที่ทำการวิเคราะห์ เช่น ความหนา ค่าดัชนีหักเห หรือสัดส่วนของผสมในเนื้อฟิล์ม เป็นต้น เนื่องจากอีลิปโซมิตรีเป็นวิธีการทางแสงที่ค่อนข้างสะดวกและรวดเร็ว เมื่อเทียบกันวิธีการอื่นที่ต้องทำการวัดในระบบสุญญากาศ ทำให้อีลิปโซมิตรีถูกใช้อย่างกว้างขวางในการศึกษาสมบัติของฟิล์มจำนวนมาก ๆ นอกจากนี้อีลิปโซมีตรียังเป็นการวัดแบบไม่ทำลาย (non-destructive characterization) จึงทำให้วิธีการนี้ได้เปรียบวิธีการอื่น ๆ มาก แม้จะมีข้อได้เปรียบหลายประการ แต่อีลิปโซมิตรียังมีข้อจำกัดที่สำคัญที่ไม่ใช่การวัดโดยตรง ความถูกต้องแม่นยำของผลการวัดขึ้นกับความถูกต้องของ Model อีลิปโซมิตรีที่ใช้ หรืออีกนัยหนึ่งขึ้นกับความรู้ความสามารถและประสพการณ์ของผู้ใช้นั่นเอง ในโครงการนี้เราได้ทำการศึกษาและพัฒนาอีลปโซมิตรีให้เป็นเครื่องมือที่ใช้วิเคราะห์ฟิล์มบางในอุตสาหกรรมฮาร์ดดิสก์ที่มีประสิทธิภาพมากขึ้น เราศึกษาเทคนิคพิเศษที่ใช้ในการวัด ตลอดจนพัฒนาเทคนิคในการวิเคราะห์ให้เกิดความเข้าใจและสามารถสร้าง Model ที่ถูกต้องแม่นยำ จนสามารถประยุกต์เทคนิคเหล่านี้กับการวิเคราะห์ฟิล์มบางฮาร์ดดิสก์ที่สนใจต่อไป ผลการศึกษาแบ่งเป็นหัวข้อดังต่อไปนี้ 1. วิธีการวัดอีลิปโซมิตรีแบบกลับด้าน Reverse-side Ellipsometry 2. Heat Stage เพื่อควบคุมอุณหภูมิตัวอย่างและวิธีการวัดแบบ Dynamic measurement 3. เทคนิคแบบ in situ Elllipsometry สำหรับการวิเคราะห์ฟิล์มในระหว่างการเคลือบ 4. ศึกษาเบื้องต้นการแพร่ของโลหะ(Metal diffusion)ของเงินสู่ซิลิกอนโดยมีฟิล์ม SiO2 เป็นชั้นกั้น