ในการวิจัยนี้ได้ทำการศึกษาผลของตัวแปรต่างๆ คือ อุณหภูมิ ความหนาของฟิล์ม ความเค้นเชิงกล และความบกพร่องเชิงโครงสร้าง ที่มีต่อสมบัติฮิสเทอรีซิสทางแม่เหล็กในฟิล์มบางขนาดนาโนนอก จากนี้ยังได้ขยายขอบเขตการศึกษาให้ครอบคลุมระบบเฟร์โรอิก โดยพิจารณาสารเฟร์โรอิเล็ก ทริกร่วมด้วย จากผลการศึกษาพบว่า ความไม่สม่ำเสนอเชิงโครงสร้างในแง่อุณหภูมิทำให้สมบัติแม่เหล็กใกล้จุดวิกฤตมีการเปลี่ยนแปลงในช่วงอุณหภูมิกว้าง ความเค้นมีผลให้วงฮิสเทอรีซิสมีขนาดเล็กลงเนื่องจากไปลดสมบัติเฟร์โร ส่วนการเพิ่มจำนวนความบกพร่องแบบช่องว่างหรือการลดจำนวนชั้นฟิล์มจะทำให้อันตรกิริยาแม่เหล็กเฉลี่ยต่อสปินลดลง ทำให้ขนาดวงฮิสเทอรีซิสที่สูงสุดเลื่อนไปในทางความถี่ที่ต่ำลง นอกจากนี้ ยังสามารถสรุปผลในแง่ความสัมพันธ์ระหว่างสมบัติฮิสเทอรีซิสกับปัจจัยความหนา(หรือจำนวนเปอร์เช็นต์จุดบกพร่องแบบช่อง) ความถี่และแอมปลิจูดของสนาม ในรูปแบบฟังก์ชันเลขชี้กำลัง ทำให้สามารถสร้างความสัมพันธ์ระหว่างตัวแปรเกิดเป็นองค์ความรูปใหม่สำหรับการนำไปใช้งานในทางประยุกต์ต่อไปในอนาคต In this study, effect of parameters i.e. temperature, films-thickness, mechanical stress and vacancy defects on magnetic hysteresis of magnetic thin-films in nano-range was investigated. In addition, the study extended to cover ferroic system by considering ferroelectrics material. From the results, the structure anisotropy in terms of temperature causes the magnetic properties close to critical point changes over a broad temperature range. On considering effect of mechanical stress, the hysteresis loop decreases as the cease in ferro-properties. On the increase of vacancy defects or the decrease of films-thickness, the average magnetic interaction per spins also reduce which causes the maximum hysteresis to shift to smaller frequency. In addition, the study also summarized the findings on relating hysteresis properties to films-thickness (or vacancy defects percentage), frequency and amplitude of the field in power-law relations. This provides the relationships among parameters which generates novel knowledge for applications in the future.