| ชื่อเรื่อง | : | Fabrication of very high aspect micromold by SU-8 photolithography and electroforming. |
| นักวิจัย | : | Zhang, Jun. |
| คำค้น | : | DRNTU::Engineering::Manufacturing. |
| หน่วยงาน | : | Nanyang Technological University, Singapore |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2550 |
| อ้างอิง | : | Zhang, J. (2007). Fabrication of very high aspect micromold by SU-8 photolithography and electroforming. Doctoral thesis, Nanyang Technological University, Singapore. , http://hdl.handle.net/10356/5524 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | Microstructures with very high aspect ratio (VHAR) have diverse applications because the increased surface area leads to increased volume handling and sensitivity desired for many MicroElectro Systems (MEMS). |
| บรรณานุกรม | : |
Zhang, Jun. . (2550). Fabrication of very high aspect micromold by SU-8 photolithography and electroforming..
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Zhang, Jun. . 2550. "Fabrication of very high aspect micromold by SU-8 photolithography and electroforming.".
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Zhang, Jun. . "Fabrication of very high aspect micromold by SU-8 photolithography and electroforming.."
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2550. Print. Zhang, Jun. . Fabrication of very high aspect micromold by SU-8 photolithography and electroforming.. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2550.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
