| ชื่อเรื่อง | : | Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications. |
| นักวิจัย | : | Wang, Minrui. |
| คำค้น | : | DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering::Electronic packaging. , DRNTU::Engineering::Materials::Microelectronics and semiconductor materials::Nanoelectronics and interconnects. |
| หน่วยงาน | : | Nanyang Technological University, Singapore |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2548 |
| อ้างอิง | : | Wang, M. (2005). Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications. Master’s thesis, Nanyang Technological University, Singapore. , http://hdl.handle.net/10356/3674 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | This thesis focuses on the growth and characterization of carbon doped silicon oxide (SiO(C,H)) low k dielectrics for multilevel interconnect applications. |
| บรรณานุกรม | : |
Wang, Minrui. . (2548). Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications..
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Wang, Minrui. . 2548. "Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.".
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Wang, Minrui. . "Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.."
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2548. Print. Wang, Minrui. . Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2548.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
