| ชื่อเรื่อง | : | พอลิเมทิลเมทาคริเลตโคเมทาคริลิกแอซิดสำหรับแม่พิมพ์ลิโทกราฟีไวรังสียูวีที่สามารถสร้างภาพได้ในสารละลายเบส |
| นักวิจัย | : | สุธีรา เทสสิริ |
| คำค้น | : | POLY(METHYL METHACRYLATE-CO-METHACRYLIC ACID) , FREE RADICAL POLYMERIZATION , MMA , MAA , IPA:MEK , LITHOGRAPHIC PLATE , DEVELOP , AQUEOUS-BASEDEVELOPER , TPGDA , TMPEOTA , DAROCUR 1173 , DAROCUR BP , EXPOSURE , NEGATIVE WORKING PLATE |
| หน่วยงาน | : | ฐานข้อมูลวิทยานิพนธ์ไทย |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2543 |
| อ้างอิง | : | http://www.thaithesis.org/detail.php?id=1082543000264 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | งานวิจัยนี้ได้สังเคราะห์โดยพอลิเมอร์ของเมทิลเมทาคริเลตและเมทาคริลิกแอซิด โดยวิธีฟรีแรดิคัลพอลิเมอไรเซชัน โดยมีเบนโซอิลเพอร์ออกไซด์ทำหน้าที่เป็นตัวริเริ่มปฏิกิริยา ได้ศึกษาอัตราส่วนระหว่างมอนอเมอร์ทั้งสองและเวลาในการทำปฏิกิริยาต่อผลการเกิดปฏิกิริยา ตรวจสอบสมบัติของพอลิเมอร์โดยสมบัติทางความร้อนตรวจสอบด้วย DSC, น้ำหนักโมเลกุลเฉลี่ยและค่าการกระจายตัวของน้ำหนักโมเลกุลด้วย GPC, อัตราส่วนของ CHO ด้วย EA และหมู่ฟังก์ชันด้วยFT-IR และ NMR จากนั้นนำโคพอลิเมอร์นี้มาใช้เป็นสารยึดในสูตรการเคลือบผิวไวแสงยูวีโดยนำโคพอลิเมอร์ที่มีอัตราส่วนระหว่างมอนอเมอร์ทั้งสองชนิดแตกต่างกันมาผสมกับ TPGDAและ TMPEOTA, Darocur 1173 และ Darocur BP และสารสี จากนั้นนำมาเคลื่อบบนแผ่นอะโนไดซ์อะลูมิเนียม ด้วยวิธีการเคลือบแบบเหวี่ยงให้ผิวหน้าเรียบ เคลือบทับด้วยสารละลาย PVA แล้วนำไปฉายรังสียูวีผ่านฟิล์มต้นฉบับซึ่งเป็นแถบควบคุมมาตรฐาน ที่เวลาฉายแสงต่าง ๆ กันเพื่อหาเวลาฉายแสงที่เหมาะสม ล้างแม่พิมพ์ด้วยน้ำยาสร้างภาพต่าง ๆเพื่อหาน้ำยาสร้างภาพที่เหมาะสม แม่พิมพ์ที่ได้นำมาประเมินคุณภาพแม่พิมพ์โดยเปรียบเทียบกับแถบควบคุมมาตรฐาน คือ หาเวลาฉายแสงที่เหมาะสม เปอร์เซ็นต์โคพอลิเมอร์ที่เหมาะสมในการใช้เป็นสารยึดโดยดูจากเปอร์เซ็นต์พื้นที่เม็ดสกรีน ร้อยละ 40, 50 และ60 หาความละเอียดที่เหมาะสมจากไมโครไลน์, หามุมสัมผัสระหว่างน้ำกับน้ำมันบนผิวหน้าแม่พิมพ์ และทดสอบแรงยึดของผิวหน้าด้วยเทปมาตรฐาน ภาวะที่เหมาะสมสำหรับการเตรียมสารยึด คือไอโซโพรพิลแอลกอฮอล์ร้อยละ 75โดยน้ำหนัก มอนอเมอร์ร้อยละ 25 อัตราส่วนระหว่าง MMA:MAA 80:20 เบนโซอิลเพอร์ออกไซด์ร้อยละ 1 โดยน้ำหนัก อัตราการกวน 295 รอบ/นาที อุณหภูมิและเวลาในการทำปฏิกิริยาคือ 70 องศาเซลเซียส และ 16 ชม. ตามลำดับ โคพอลิเมอร์มีลักษณะใสและแข็งคล้ายแก้วและมีสมบัติดังต่อไปนี้ อุณหภูมิสภาพแก้ว 163.4 องศาเซลเซียส น้ำหนักโมเลกุลเฉลี่ย 1X10('6) แม่พิมพ์ที่ได้จากสารยึดโคพอลิเมอร์ที่เหมาะสมนี้นำมาประเมินคุณภาพเพื่อหาค่าการฉายแสงที่เหมาะสม สมบัติของผิวและทดสอบแรงยึดด้วยเทป ผลปรากฏว่าสูตรสารเคลือบนี้สามารถนำมาใช้เป็นสารเคลือบแม่พิมพ์ออฟเซตเนกาทีฟซึ่งสามารถสร้างภาพได้ในสารละลายเบสชนิดน้ำ งานวิยัยได้อภิปรายผของตัวแปรต่อคุณภาพของผลิตภัณฑ์ที่ได้ |
| บรรณานุกรม | : |
สุธีรา เทสสิริ . (2543). พอลิเมทิลเมทาคริเลตโคเมทาคริลิกแอซิดสำหรับแม่พิมพ์ลิโทกราฟีไวรังสียูวีที่สามารถสร้างภาพได้ในสารละลายเบส.
กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลวิทยานิพนธ์ไทย. สุธีรา เทสสิริ . 2543. "พอลิเมทิลเมทาคริเลตโคเมทาคริลิกแอซิดสำหรับแม่พิมพ์ลิโทกราฟีไวรังสียูวีที่สามารถสร้างภาพได้ในสารละลายเบส".
กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลวิทยานิพนธ์ไทย. สุธีรา เทสสิริ . "พอลิเมทิลเมทาคริเลตโคเมทาคริลิกแอซิดสำหรับแม่พิมพ์ลิโทกราฟีไวรังสียูวีที่สามารถสร้างภาพได้ในสารละลายเบส."
กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลวิทยานิพนธ์ไทย, 2543. Print. สุธีรา เทสสิริ . พอลิเมทิลเมทาคริเลตโคเมทาคริลิกแอซิดสำหรับแม่พิมพ์ลิโทกราฟีไวรังสียูวีที่สามารถสร้างภาพได้ในสารละลายเบส. กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลวิทยานิพนธ์ไทย; 2543.
|
