ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

High-temperature nitridation of the intermetallic compound TiAl at 1000-1200 K

หน่วยงาน ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : High-temperature nitridation of the intermetallic compound TiAl at 1000-1200 K
นักวิจัย : สมชาย ทองเต็ม
คำค้น : -
หน่วยงาน : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2542
อ้างอิง : -
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

The nitridation process of MJ12 (Ti–47Al–2Nb–2Cr) and MJ47 (Ti–47Al–2Nb–Mn + 0.TiB2) in an atmosphere of purified ammonia has been investigated over the temperature range 1000–1200 K. The nitrided alloys showed improvement of hardness and wear resistance in this environment. At 1200 K nitridation, Knoop hardness values of MJ12 and MJ47 were 1283.6 and 1391.3 kg mm−2, respectively, and the decrease in wear rate of both alloys was as much as 99%. By using x‐ray diffraction, TiN was detected on the surface of the alloys nitrided ≥1100 K. Copyright © 1999 John Wiley & Sons, Ltd.


บรรณานุกรม :
สมชาย ทองเต็ม . (2542). High-temperature nitridation of the intermetallic compound TiAl at 1000-1200 K.
    กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี.
สมชาย ทองเต็ม . 2542. "High-temperature nitridation of the intermetallic compound TiAl at 1000-1200 K".
    กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี.
สมชาย ทองเต็ม . "High-temperature nitridation of the intermetallic compound TiAl at 1000-1200 K."
    กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี, 2542. Print.
สมชาย ทองเต็ม . High-temperature nitridation of the intermetallic compound TiAl at 1000-1200 K. กรุงเทพมหานคร : ฐานข้อมูลโครงสร้างพื้นฐานภาครัฐด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี กระทรวงวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี; 2542.