อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ประเภทเครื่องจักรกลไฟฟ้าจุลภาค (Micro Electro Mechanical System, MEMS) นั้น จะมีโครงสร้างจุลภาคเป็นแบบ 3 มิติ ซึ่งต้องอาศํยกระบวนการถ่ายแบบลายวงจร (Photolithography process) หลายขั้นตอน ในกรณีที่ใช้กระจกต้นแบบชนิดความเข้มแสงไบนารีที่มีใช้อยู่ในปัจจุบัน ต่อมาได้มีการพัฒนากระจกต้นแบบชนิดเกรย์สเกล (Grayscale lithography mask, GSL-mask) ซึ่งอาศัยการปรับเปลี่ยนขนาดของช่องปิดและช่องเปิด เพื่อให้เกิดเป็นสลิต (Light slit) แสงและเกิดแสงแทรกสอด จึงเกิดการกรองพลังงานแสงตามขนาดของช่องปิดและช่องเปิด ทำให้สามารถสร้างโครงสร้างจุลภาค 3 มิติ ที่มีความหนาชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงที่แตกต่างกันในการฉายแสงและการกัดเพียงครั้งเดียว แต่เนื่องจากกระจกต้นแบบชนิดเกรย์สเกลนั้น มีราคาแพงกว่ากระจกต้นแบบชนิดความเข้มแสงไบนารีถึง 15 เท่า อีกทั้งลายวงจรที่ใช้สร้างอุปกรณ์ประเภท MEMS นั้น ก็มีขนาดใหญ่ประมาณ 20 ไมครอน จึงมีแนวคิดที่จะนำเอาฟิล์มบางโปร่งแสง มาใช้เป็นแผ่นต้นแบบเพื่อใช้กันแสงในการสร้างลายวงจรแทน ซึ่งต้นแบบที่สร้างจากฟิล์มบางโปร่งแสงนี้จะมีราคาถูกประมาณแผ่นละ 100-200 บาท ต่อขนาด A4 และลายวงจรสามารถสร้างได้ด้วย 3 เทคนิค คือ (1) การออกแบบลายวงจรด้วยโปรแกรม Powerpoint โดยให้มีการปรับเปลี่ยนค่าความเข้มของสีดำตั้งแต่ 0 ถึง 100 เปอร์เซ็นต์ โดยมีระยะห่างระหว่างค่าความเข้มเท่ากับ 10 เปอร์เซ็นต์ จากนั้นพิมพ์ลายวงจรที่ออกแบบไว้ลงบนแผ่นใสด้วยเครื่องพิมพ์แบบอิงค์เจต และ (2) การออกแบบลายวงจรด้วยโปรแกรม PowerPoint โดยให้มีการปรับเปลี่ยนเฉดสี จำนวน 6 สี ได้แก่ ดำ แดง เหลือง เขียว น้ำเงิน ชมพู โดยแต่ละเฉดสีให้มีความเข้มข้นของเม็ดสีเท่ากับ 100 เปอร์เซ็นต์ จากนั้นพิมพ์ลายวงจรที่ออกแบบไว้ลงบนแผ่นใสด้วยเครื่องพิมพ์แบบอิงค์เจต จากนั้นนำชั้นฟิล์มโปร่งแสงที่สร้างได้ไปถ่ายแบบลายวงจรลงบนชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงที่เคลือบบนผิวชิ้นงาน และ (3) การใช้ฟิล์มน้ำยาไวแสงชนิดลบและฉายแสงด้วยแสงเลเซอร์ชนิดแหล่งกำเนิด Helium-Neon (He-Ne) ซึ่งผลการทดลองที่ได้นี้จะเป็นแนวทางเพื่อประกอบการพิจารณาความเป็นไปได้ในการประยุกต์ใช้ต้นแบบชนิดฟิล์มบางโปร่งแสงสำหรับการถ่ายแบบเพื่อสร้างโครงสร้างจุลภาค 3 มิติ ราคาถูกต่อไปในอนาคต