สายตามนุษย์โดยทั่วไปจะสามารถมองเห็นวัตถุที่มีขนาดเล็กที่สุดได้เพียง 0.1 มิลลิเมตร ส่วนวัตถุที่มีขนาดเล็กกว่านี้นั้น สายตามนุษย์จะไม่สามารถมองเห็นหรือแยกแยะรายละเอียดได้ จึงต้องใช้กล้องจุลทรรศน์ทางแสงช่วยในการขยายภาพวัตถุให้มีขนาดใหญ่ขึ้น ทั้งนี้ส่วนที่ทำหน้าที่กำหนดกำลังขยายในกล้องจุลทรรศน์ทางแสงคือ เลนส์ใกล้ตาและเลนส์ใกล้วัตถุ ซึ่งโดยทั่วไปจะสามารถขยายขนาดของวัตถุได้ตั้งแต่ 50 เท่า ถึง 3,000 เท่า ขึ้นอยู่กับกำลังขยายของเลนส์ใกล้ตาและเลนส์ใกล้วัตถุ นอกจากนี้ยังมีการวัดขนาดของชิ้นงานโดยใช้เครื่องมือที่เรียกว่า Reticle ซึ่งเป็นเลนส์ตัวหนึ่งที่มีไม้บรรทัดหรือไมโครสเกลอยู่บนผิวกระจก วางไปในตำแหน่งเหนือเลนส์ใกล้ตา ทั้งนี้เพื่อให้ไมโครสเกลนั้นซ้อนลงไปบนภาพของชิ้นงาน จึงทำให้สามารถวัดขนาดของชิ้นงานได้ อย่างไรก็ตาม Reticle นี้มีราคาที่สูง และยังต้องนำเข้า 100 เปอร์เซ็นต์ งานวิจัยนี้จึงมุ่งศึกษาและพัฒนากระบวนการสร้างไมโครสเกลบนผิว Reticle โดยการใช้กระบวนการถ่ายแบบลายวงจร ซึ่งจะทำให้สามารถสร้างไมโครสเกลที่มีขนาดเล็กและมีความเที่ยงตรงในการวัดสูง โดยจากผลการทดลองพบว่า TMEC มีศักยภาพในการผลิต Eye piece lens scale สำหรับรองรับความต้องการทั้งภาครัฐและภาคอุตสาหกรรมต่อไปในอนาคต Eyepiece lens in optical microscope have microscales so-called Reticles or Eyepiece lens scale. They sit right at the focal plane inside the eyepiece lens of the microscope and allow an inspector to make accurate measurements of specimens. The scale of micrometer on eyepiece lens can be produced by using Photolithography process. In this paper, linear micrometer and Circular frame micrometer has been considered. The results shown that TMEC patterning process can be controlled the pattern linewidth on the photomask and eyepiece lens glass within the specification from the designed linewidth. This can support the local laboratories and manufacturers who use the on-lens micrometer in the near future.