| ชื่อเรื่อง | : | สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE |
| นักวิจัย | : | จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ |
| คำค้น | : | Selectivity , Silicon , Silicon dioxide , การเลือกกัด , ซิลิคอน , ซิลิคอนไดออกไซด์ , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ |
| หน่วยงาน | : | สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2551 |
| อ้างอิง | : | http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/10567 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | รายงานฉบับนี้แสดงถึงสูตรที่สามารถใช้กัดซิลิคอนไดออกไซด์ด้วยเครื่อง RIE ยี่ห้อ Applied Material รุ่น P-5000 โดยสูตรที่จะกล่าวถึงนั้นได้รับการพัฒนาให้มีค่าการเลือกกัดที่สูงถึง 14.72 : 1(SiO2 : Si) เมื่อเทียบกับสูตรเดิมที่ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์มีอยู่ ณ ปัจจุบัน ซึ่งมีค่าเพียง 12.83 : 1 เท่านั้น |
| บรรณานุกรม | : |
จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . (2551). สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE.
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . 2551. "สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE".
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . "สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE."
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2551. Print. จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2551.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
