| ชื่อเรื่อง | : | กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2 |
| นักวิจัย | : | จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย |
| คำค้น | : | ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ |
| หน่วยงาน | : | สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2551 |
| อ้างอิง | : | http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/10450 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | การสร้างอุปกรณ์หน่วยความจำ สร้างโดยใช้กระบวนการถ่ายย่อแบบผ่านกระจกต้นแบบลายวงจรย่อขนาดลงบนแผ่นเวเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว ด้วยกระบวนการต่างๆ มากมายเช่นกระบวนการปลูกฟิล์ม, กระบวนการถ่ายย่อแบบลายวงจร, กระบวนการกัดชั้นลายวงจรเป็นต้น โดยในกระบวนการสร้างจะสร้างลวดลายบนชั้นฟิล์มต่างๆ ทั้งหมด 5 ชั้นลายคือ Metal 1, Via, Via-Shift, Metal 2, PAD ซึ่งลายวงจรในแต่ละชั้นจะมีลักษณะเป็นช่องเปิด และมีลักษณะเป็นเกาะ ซึ่งในกระบวนการสร้างอุปกรณ์หน่วยความจำนั้น จะเริ่มต้นสร้างในกระบวนการปลูกชั้นฟิล์มโลหะ (Front end process) โดยในการสร้างอุปกรณ์หน่วยความจำนี้ สามารถสร้างในกระบวนการผลิตซีมอส 0.8 ไมครอนได้ |
| บรรณานุกรม | : |
จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . (2551). กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2.
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . 2551. "กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2".
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . "กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2."
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2551. Print. จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2551.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
