| ชื่อเรื่อง | : | Layer-by-layer thinning of MoS2 by thermal annealing |
| นักวิจัย | : | Lu, Xin , Utama, Muhammad Iqbal Bakti , Zhang, Jun , Zhao, Yanyuan , Xiong, Qihua |
| คำค้น | : | DRNTU::Engineering::Materials::Microelectronics and semiconductor materials::Thin films |
| หน่วยงาน | : | Nanyang Technological University, Singapore |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2556 |
| อ้างอิง | : | Lu, X., Utama, M. I. B., Zhang, J., Zhao, Y., & Xiong, Q. (2013). Layer-by-layer thinning of MoS 2 by thermal annealing. Nanoscale, 5(19), 8904-8908. , http://hdl.handle.net/10220/24522 , http://dx.doi.org/10.1039/C3NR03101B |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | Nanoscale |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | By thermal annealing, few-layer MoS2 flakes can be thinned down. In one hour, the upper layer is peeled off due to sublimation. Eventually, monolayer MoS2 is achieved. We have characterized the process by optical contrast, Raman spectroscopy and atomic force microscopy (AFM), and observed a mixture of surfaces of N and N − 1 layers. |
| บรรณานุกรม | : |
Lu, Xin , Utama, Muhammad Iqbal Bakti , Zhang, Jun , Zhao, Yanyuan , Xiong, Qihua . (2556). Layer-by-layer thinning of MoS2 by thermal annealing.
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Lu, Xin , Utama, Muhammad Iqbal Bakti , Zhang, Jun , Zhao, Yanyuan , Xiong, Qihua . 2556. "Layer-by-layer thinning of MoS2 by thermal annealing".
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Lu, Xin , Utama, Muhammad Iqbal Bakti , Zhang, Jun , Zhao, Yanyuan , Xiong, Qihua . "Layer-by-layer thinning of MoS2 by thermal annealing."
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2556. Print. Lu, Xin , Utama, Muhammad Iqbal Bakti , Zhang, Jun , Zhao, Yanyuan , Xiong, Qihua . Layer-by-layer thinning of MoS2 by thermal annealing. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2556.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
