Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications.

ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications.

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง	:	Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications.
นักวิจัย	:	Yu, Suzhu.
คำค้น	:	DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering::Electronic apparatus and materials.
หน่วยงาน	:	Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน	:	-
ปีพิมพ์	:	2548
อ้างอิง	:	Yu, S. Z. (2005). Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications. Doctoral thesis, Nanyang Technological University, Singapore. , http://hdl.handle.net/10356/3931
ที่มา	:	-
ความเชี่ยวชาญ	:	-
ความสัมพันธ์	:	-
ขอบเขตของเนื้อหา	:	-
บทคัดย่อ/คำอธิบาย	:	With the miniaturization of semiconductor devices, new dielectric materials with dielectric constant (k) lower than silicon dioxide (k = 4.0) are required to reduce propagation delay, cross talk noise and power dissipation of the interconnect system in ultra-large-scale integrated circuits (ULSI). This thesis presents the results of fabrication and characterization of mesoporous organosilicate films used as interconnect dielectrics. Two basic methods to establish porous network in the films, namely the sol-gel and sacrificial template approaches, have been used in this work.
บรรณานุกรม	:	APA Chicago MLA Vancouver Yu, Suzhu. . (2548). Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications.. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Yu, Suzhu. . 2548. "Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications.". กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Yu, Suzhu. . "Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications.." กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2548. Print. Yu, Suzhu. . Fabrication and characterization of mesoporous dielectric materials for ULSI interconnect applications.. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2548.

งานวิจัยเพิ่มเติม (เจ้าของผลงาน)

ไม่พบข้อมูลงานวิจัยเพิ่มเติม (เจ้าของผลงาน)

จำนวนผู้ดูรายละเอียด