| ชื่อเรื่อง | : | Ultra-thin and flat mica as gate dielectric layers |
| นักวิจัย | : | Low, Chong Guan , Zhang, Qing |
| คำค้น | : | DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering. |
| หน่วยงาน | : | Nanyang Technological University, Singapore |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2555 |
| อ้างอิง | : | Low, C. G., & Zhang, Q. (2012). Ultra-thin and Flat Mica as Gate Dielectric Layers. Small, 8(14), 2178-2183. , 1613-6810 , http://hdl.handle.net/10220/10086 , http://dx.doi.org/10.1002/smll.201200300 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | Small |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | Ultra-thin and flat mica-based carbon nanotube field-effect transistors reveal the excellent gate control capability and low leakage current due to the high dielectric constant and high dielectric strength of ultra-thin mica as the gate dielectric. Subthreshold swing of 110 mV/dec and carrier mobility improvement are achieved. The ultra-thin mica retains its surface flatness, indicating the potential application for low-dimensional materials in which surface roughness scattering is significant. |
| บรรณานุกรม | : |
Low, Chong Guan , Zhang, Qing . (2555). Ultra-thin and flat mica as gate dielectric layers.
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Low, Chong Guan , Zhang, Qing . 2555. "Ultra-thin and flat mica as gate dielectric layers".
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore. Low, Chong Guan , Zhang, Qing . "Ultra-thin and flat mica as gate dielectric layers."
กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2555. Print. Low, Chong Guan , Zhang, Qing . Ultra-thin and flat mica as gate dielectric layers. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2555.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
