การศึกษาการสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วในสารละลายด้วยการฉายแสงอัลตราไวโอเลต โดยใช้ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์เป็นตัวเร่งปฏิกิริยา แหล่งกำเนิดแสงอัตราไวโลเลตใข้ medium-pressure mercury lamp ที่ให้แสงในช่วงความยาวคลื่น254 นาโนเมตร โดยได้ทำการศึกษาอิทธิพลของปัจจัยต่าง ๆ เพื่อหาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับการสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่ว เช่น ความเข้มข้นของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ค่าความเป็นกรด-เบสของสารละลาย อัตราส่วนระหว่างความเข้มข้นของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วต่อไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ และความเข้มข้นของไนเตรต ผลจากการทดลองแสดงให้เห็นว่าสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วสามารถสลายตัวได้รวดเร็วและสามารถกำจัดตะกั่วออกจากสารละลายได้ในเวลาเดียวกัน ซึ่งสังเกตุได้จากตะกอนที่เกิดขึ้น สภาวะที่เหมาะสมสำหรับการสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วคืออัตราส่วนระหว่างสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วต่อไฮดดรเจนเปอร์ออกไซด์เป็น 1:20 ที่ค่าความเป็นกรด-เบสเริ่มต้นของสารละลายเป็น 3.0 หลังจากการฉายแสงพบว่ามีผลิตภัณฑ์ต่าง ๆ เกิดขึ้น เช่น nitrilotriacetic acid, iminodiaceticacid, ออกซาเลตและไนเตรต ส่วนผลของความเข้มข้นของไนเตรตนั้น พบว่าที่ความเข้มข้นต่ำ(0.004 M) ไนเตรตจะไม่สงผลต่อการสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่ว แต่ที่ความเข้มข้นสูง (0.04 M) ไนเตรตจะทำให้การสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วและการกำจัดตะกั่วลดลง ค่า quantum yield ของการสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วด้วยวิธีโฟโตออกซิเดชัน มีค่า 0.30 นอกจากนี้ได้ศึกษาเปรียบเทียบการสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนตะกั่วกับสารประกอบเชิงซ้อนของโลหะอื่น ๆ เช่นสังกะสี และแคดเมียม พบว่าสารประกอบเชิงซ้อนของสังกะสี และแคดเมียม สามารถสลายตัวได้อย่างรวดเร็วเช่นกันแต่ปริมาณของสังกะสีและแคดเมียม ในสารละลายยังมีเท่าเดิม ค่า quantum yield ของการสลายตัวของสารประกอบเชิงซ้อนของสังกะสีและแคดเมียมด้วยวิธีโฟโตออกซิเดชันมีค่าเป็น 0.21 และ 0.22 ตามลำดับ