จุดประสงค์ของการศึกษานี้คือ การหาแบบจำลองขององค์ประกอบหลัก (PrincipalComponent Analysis) เพื่อใช้ในการตรวจจับความผิดพลาดในกระบวนการกัดด้วยปฏิกิริยาไอออน (Reactive Ion Etching) โดยข้อมูล 20 ชุดที่นำมาใช้เป็นข้อมูลที่เป็นปกติและตัวแปรกระบวนการ 11 ตัว ถูกนำมาใช้ในการสร้างแบบจำลอง โดยในแต่ละชุดข้อมูลจะใช้เวลาประมาณ 628 ช่วงเวลาและนำมาจากเครื่องเพียงเครื่องเดียวเท่านั้น พบว่า เมื่อสร้างแบบจำลองขององค์ประกอบหลักจะสามารถอธิบายความแปรปรวนในกระบวนการได้ประมาณ80 เปอร์เซ็นต์ จากองค์ประกอบหลัก 4 ตัว เมื่อนำแบบจำลองที่ได้ไปทดสอบกับข้อมูลที่เป็นปกติและไม่เป็นปกติพบว่าแบบจำลองสามารถตรวจจับความผิดปกติที่เกิดกับข้อมูลที่ไม่เป็นปกติได้และพบว่าเกิดปัญหาเกี่ยวกับการแกว่งของไบแอสในเครื่องทำให้ค่าที่ได้จากองค์ประกอบหลักออกนอกจากเขตควบคุมที่กำหนดไว้ โดยจุดเด่นของการวิเคราะห์องค์ประกอบหลักคือการลดจำนวนตัวแปรลงและการประมวลผลของตัวแปรใหม่ (แบบจำลอง) ที่ได้ เมื่อนำวิธีการนี้ไปใช้ในกระบวนการผลิตพบว่า ความสม่ำเสมอในกระบวนการผลิตดีขึ้นโดยลดลงจาก 1.830 เปอร์เซ็นต์ เป็น 1.795 เปอร์เซ็นต์