| ชื่อเรื่อง | : | การวิจัยและพัฒนาการเคลือบผิวโลหะด้วยวิธีสปัตเตอริง |
| นักวิจัย | : | พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ |
| คำค้น | : | สปัตเตอริง , เคลือบผิวโลหะ |
| หน่วยงาน | : | สำนักงานกองทุนสนับสนุนการวิจัย |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2548 |
| อ้างอิง | : | http://elibrary.trf.or.th/project_content.asp?PJID=RDG4450030 , http://research.trf.or.th/node/3446 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | ในงานวิจัยนี้ได้ออกแบบและสร้างเครืองสปัตเตอริงขนาดอุตสาหกรรม ซึ่งประกอบด้วยส่วนสำคัญ 6 ส่วน คือ (1) ภาชนะสุญญากาศ (2) ระบบปั๊มสุญญากาศ (3)ชุดจ่ายกำลังไฟฟ้า (4) คาโทคและเป้าสารเคลือบ (5) ชุดควบคุมการไหลของก๊าซ และ (6) ระบบน้ำหล่อเย็น ภาชนะสุญญากาศทำจากสเตนเลสหนา 20 มิลลิเมตร และมีปริมาณประมาณ 257 ลิตร เป้าสารเคลือบมี 2 เป้า แต่ละป้ามีขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 5 นิ้ว และติดอยู่บนคาโทคแต่ละตัวในด้านตรางข้ามกันภายในภาชนะสุญญากาศ ระบบปั๊มสุญญากาศประกอบด้วย โรตารีปั๊ม ( รุ่น Edwards 28 ) และปั๊มแพร่ไอน้ำมัน ( รุ่น Leybold 3000) โดยสามารถปั๊มให้ได้ความดันภายในภาชนะสุญญากาศลงถึง 10 –5 มิลลิบาร์ ภายในเวลา 30 นาที สปัตเตอริงก๊าซที่ใช้เป็นก๊าซอาร์กอนที่มีความบริสุทธิ์ 99.999 % ส่วนก๊าซออกซิเจนและก๊าซไนโตรเจนที่มีความบริสุทธิ์ 99.99 % ถูกใช้เป็นรีแอคทีฟก๊าซในการเคลือบฟิล์มบางอะลูมิเนียมออกไซด์ และไททาเนียมไนไตรด์ ตามลำดับ ในการควบคุมการไหลของก๊าซทั้ง 30 ชนิด ได้ใช้ mass flow controller ( รุ่น MKS 254 ) ฟิล์มบางอะลูมิเนียมออกไซด์ ( Al2O3) และฟิล์มบางไททาเนียมไนไตรด์ ( TiN ) ถูกนำมาวิเคราะห์โดยเครื่องเอกซ์เรย์ดิฟแฟรคโตมิเตอร์และรามานสเปกโตรมิเตอร์ A d.c. planar magnetron sputtering system of industrial scale has been designed and developed . The sputtering system consists of six main parts .i.e. vacuum chamber . vacuum pumping system , d.c. power supply , cathodes and targets , gas flow controller and water cooling system . The vacuum chamber was constructed from stainless steel, 20 mm thick , and the volume of the chamber was approximately 257 litre . Two sputtering targets , each of 5 in. diameter . were attached oppositely on two cathodes of the vacuum chamber . Pumping was done with and Edwards 28 rotary pump and a Leybold 3000 oil diffusion . This system was capable of reaching 10-5 mbar chamber pressure after 30 min. Argon of 99.999% purity was used as the sputtering gas . Oxygen and nitrogen of 99.99 % putiry were used as t reactive gas for Al2O3 and Tin thin film coating , respectively . All three gas flow rates were controlled by MKS 247 mass flow controller . The Al2O3 and Tin thin films were, then, characterized by XRD and Raman spectrometer |
| บรรณานุกรม | : |
พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ . (2548). การวิจัยและพัฒนาการเคลือบผิวโลหะด้วยวิธีสปัตเตอริง.
กรุงเทพมหานคร : สำนักงานกองทุนสนับสนุนการวิจัย. พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ . 2548. "การวิจัยและพัฒนาการเคลือบผิวโลหะด้วยวิธีสปัตเตอริง".
กรุงเทพมหานคร : สำนักงานกองทุนสนับสนุนการวิจัย. พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ . "การวิจัยและพัฒนาการเคลือบผิวโลหะด้วยวิธีสปัตเตอริง."
กรุงเทพมหานคร : สำนักงานกองทุนสนับสนุนการวิจัย, 2548. Print. พิเชษฐ ลิ้มสุวรรณ . การวิจัยและพัฒนาการเคลือบผิวโลหะด้วยวิธีสปัตเตอริง. กรุงเทพมหานคร : สำนักงานกองทุนสนับสนุนการวิจัย; 2548.
|
