ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Growth Of ZnO Nanorods Using Hydrothermal And Modified Chemical Bath Deposition For Device Applications

หน่วยงาน Universiti Sains Malaysia, Malaysia

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Growth Of ZnO Nanorods Using Hydrothermal And Modified Chemical Bath Deposition For Device Applications
นักวิจัย : Mohammad, Sabah M.
คำค้น : QC1 Physics (General)
หน่วยงาน : Universiti Sains Malaysia, Malaysia
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2560
อ้างอิง : http://eprints.usm.my/38648/1/Growth_of_ZnO_nanorods_using_hydrothermal_and_modified_chemical_bath_deposition_for_device_applications__by_Sabah_M._Mohammad..pdf , Mohammad, Sabah M. (2017) Growth Of ZnO Nanorods Using Hydrothermal And Modified Chemical Bath Deposition For Device Applications. PhD thesis, Universiti Sains Malaysia.
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : http://ezproxy.usm.my/login?url=http://ethesis.usm.my/jspui , http://eprints.usm.my/38648/
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Zink oksida (ZnO) adalah semikonduktor jurang jalur lebar yang berpotensi dalam aplikasi peranti elektronik dan peranti optoelektronik berkecekapan tinggi. Kajian ini mengandungi dua objektif Zinc oxide (ZnO) is a promising wide band gap semiconductor with applications in high efficiency electronic and optoelectronic devices. The present study follows two objectives

บรรณานุกรม :
Mohammad, Sabah M. . (2560). Growth Of ZnO Nanorods Using Hydrothermal And Modified Chemical Bath Deposition For Device Applications.
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia.
Mohammad, Sabah M. . 2560. "Growth Of ZnO Nanorods Using Hydrothermal And Modified Chemical Bath Deposition For Device Applications".
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia.
Mohammad, Sabah M. . "Growth Of ZnO Nanorods Using Hydrothermal And Modified Chemical Bath Deposition For Device Applications."
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia, 2560. Print.
Mohammad, Sabah M. . Growth Of ZnO Nanorods Using Hydrothermal And Modified Chemical Bath Deposition For Device Applications. กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia; 2560.