| ชื่อเรื่อง | : | The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology |
| นักวิจัย | : | Lee, Kang Hai |
| คำค้น | : | R5-920 Medicine (General) |
| หน่วยงาน | : | Universiti Sains Malaysia, Malaysia |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2549 |
| อ้างอิง | : | http://eprints.usm.my/29274/1/The_effect_of_implant_angle.pdf , Lee, Kang Hai (2006) The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology. Masters thesis, USM. |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | http://eprints.usm.my/29274/ |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | Dengan adanya peningkatan teknologi bagi industri fabrikasi litar terkamil (IC) ke tahap 90nm dan seterusnya, masih terdapat isu yang perlu ditimbangkan untuk technologi yang lebih rendah (0.13μm dan 0.22μm). As the integrated circuit (IC) fabrication industry gears up to volume manufacturing of 90nm technology node and beyond, there are issues still need to be addressed at the lower technology nodes such as 0.13μm and 0.22μm. |
| บรรณานุกรม | : |
Lee, Kang Hai . (2549). The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In
Submicron Implant Technology.
กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia. Lee, Kang Hai . 2549. "The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In
Submicron Implant Technology".
กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia. Lee, Kang Hai . "The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In
Submicron Implant Technology."
กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia, 2549. Print. Lee, Kang Hai . The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In
Submicron Implant Technology. กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia; 2549.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
