Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].

ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].

หน่วยงาน Universiti Sains Malaysia, Malaysia

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง	:	Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].
นักวิจัย	:	Tan, Philip Beow Yew
คำค้น	:	TK7800-8360 Electronics
หน่วยงาน	:	Universiti Sains Malaysia, Malaysia
ผู้ร่วมงาน	:	-
ปีพิมพ์	:	2551
อ้างอิง	:	http://eprints.usm.my/9583/1/COMPACT_MODELING_OF_DEEP_SUBMICRON_CMOS_TRANSISTOR.pdf , Tan, Philip Beow Yew (2008) Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb]. PhD thesis, Universiti Sains Malaysia.
ที่มา	:	-
ความเชี่ยวชาญ	:	-
ความสัมพันธ์	:	http://eprints.usm.my/9583/
ขอบเขตของเนื้อหา	:	-
บทคัดย่อ/คำอธิบาย	:	Thesis ini memperkenalkan satu model padat, dua model berasaskan empirikal dan satu model berasaskan fizikal untuk kesan tekanan mekanikal Pengasingan Peparit Cetek (STI) ke atas transistor CMOS di bawah submikron. This thesis introduces a compact model, two empirical-based models and a physical-based model of Shallow Trench Isolation (STI) mechanical stress effect on deep submicron CMOS transistor.
บรรณานุกรม	:	APA Chicago MLA Vancouver Tan, Philip Beow Yew . (2551). Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].. กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia. Tan, Philip Beow Yew . 2551. "Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].". กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia. Tan, Philip Beow Yew . "Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].." กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia, 2551. Print. Tan, Philip Beow Yew . Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].. กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia; 2551.

งานวิจัยเพิ่มเติม (เจ้าของผลงาน)

ไม่พบข้อมูลงานวิจัยเพิ่มเติม (เจ้าของผลงาน)

จำนวนผู้ดูรายละเอียด