ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Investigation of low dielectric constant (k) films for deep sub-micron CMOS application.

หน่วยงาน Universiti Sains Malaysia, Malaysia

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Investigation of low dielectric constant (k) films for deep sub-micron CMOS application.
นักวิจัย : Cheon'g, Kuan Yew , Hussain, Luay Bakir
คำค้น : TN1-997 Mining engineering. Metallurgy
หน่วยงาน : Universiti Sains Malaysia, Malaysia
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2550
อ้างอิง : Cheon'g, Kuan Yew and Hussain, Luay Bakir (2007) Investigation of low dielectric constant (k) films for deep sub-micron CMOS application. Project Report. Universiti Sains Malaysia.
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : http://eprints.usm.my/10419/
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Silica (Si02) thin film on Si with low dielectric constant (k) properties has been systematically prepared and investigated. Two types of this low-k material have been deposited on Si via sol-gel spin-on coating. Filem nipis silika (Si02) yang berpemalar dieletrik rendah endap di atas Si tlah disediakan dan dikaji dengan sistematik. Dua jenis film nipis telah disediakan menggunkan pemutaran sol-gel.

บรรณานุกรม :
Cheon'g, Kuan Yew , Hussain, Luay Bakir . (2550). Investigation of low dielectric constant (k) films for deep sub-micron CMOS application..
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia.
Cheon'g, Kuan Yew , Hussain, Luay Bakir . 2550. "Investigation of low dielectric constant (k) films for deep sub-micron CMOS application.".
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia.
Cheon'g, Kuan Yew , Hussain, Luay Bakir . "Investigation of low dielectric constant (k) films for deep sub-micron CMOS application.."
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia, 2550. Print.
Cheon'g, Kuan Yew , Hussain, Luay Bakir . Investigation of low dielectric constant (k) films for deep sub-micron CMOS application.. กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia; 2550.