| ชื่อเรื่อง | : | Fabrication of a negative PMMA master mold for soft-lithography by MeV ion beam lithography |
| นักวิจัย | : | Puttaraksa N. , Unai S. , Rhodes M.W. , Singkarat K. , Whitlow H.J. , Singkarat S. |
| คำค้น | : | - |
| หน่วยงาน | : | มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2557 |
| อ้างอิง | : | 0168583X , 10.1016/j.nimb.2011.01.053 , NIMBE , http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-79951953992&partnerID=40&md5=c51b8a5b814072c61742121fc4fdb141 , http://cmuir.cmu.ac.th/handle/6653943832/7368 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | In this study, poly(methyl methacrylate) (PMMA) was investigated as a negative resist by irradiation with a high-fluence 2 MeV proton beam. The beam from a 1.7 MV Tandetron accelerator at the Plasma and Beam Physics Research Facility (PBP) of Chiang Mai University is shaped by a pair of computer-controlled L-shaped apertures which are used to expose rectangular pattern elements with 1-1000 μm side length. Repeated exposure of rectangular pattern elements allows a complex pattern to be built up. After subsequent development, the negative PMMA microstructure was used as a master mold for casting poly(dimethylsiloxane) (PDMS) following a standard soft-lithography process. The PDMS chip fabricated by this technique was demonstrated to be a microfluidic device. © 2011 Elsevier B.V. All rights reserved. |
| บรรณานุกรม | : |
Puttaraksa N. , Unai S. , Rhodes M.W. , Singkarat K. , Whitlow H.J. , Singkarat S. . (2557). Fabrication of a negative PMMA master mold for soft-lithography by MeV ion beam lithography.
เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ . Puttaraksa N. , Unai S. , Rhodes M.W. , Singkarat K. , Whitlow H.J. , Singkarat S. . 2557. "Fabrication of a negative PMMA master mold for soft-lithography by MeV ion beam lithography".
เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ . Puttaraksa N. , Unai S. , Rhodes M.W. , Singkarat K. , Whitlow H.J. , Singkarat S. . "Fabrication of a negative PMMA master mold for soft-lithography by MeV ion beam lithography."
เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ , 2557. Print. Puttaraksa N. , Unai S. , Rhodes M.W. , Singkarat K. , Whitlow H.J. , Singkarat S. . Fabrication of a negative PMMA master mold for soft-lithography by MeV ion beam lithography. เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ ; 2557.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
