| ชื่อเรื่อง | : | Direct writing of channels for microfluidics in silica by MeV ion beam lithography |
| นักวิจัย | : | Puttaraksa N. , Napari M. , Chienthavorn O. , Norarat R. , Sajavaara T. , Laitinen M. , Singkarat S. , Whitlow H.J. |
| คำค้น | : | - |
| หน่วยงาน | : | มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2554 |
| อ้างอิง | : | 9.78304E+12 , 10226680 , 10.4028/www.scientific.net/AMR.254.132 , 85424 , http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-79960058706&partnerID=40&md5=c38a6e7a4f8f01c7c8b4087193beba01 , http://cmuir.cmu.ac.th/handle/6653943832/6521 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | The lithographic exposure characteristic of amorphous silica (SiO 2) was investigated for 6.8 MeV 16O3+ ions. A programmable proximity aperture lithography (PPAL) technique was used for the ion beam exposure. After exposure, the exposed pattern was developed by selective etching in 4% v/v HF. Here, we report on the development of SiO 2 in term of the etch depth dependence on the ion fluence. This showed an exponential approach towards a constant asymptotic etch depth with increasing ion fluence. An example of microfluidic channels produced by this technique is demonstrated. © (2011) Trans Tech Publications, Switzerland. |
| บรรณานุกรม | : |
Puttaraksa N. , Napari M. , Chienthavorn O. , Norarat R. , Sajavaara T. , Laitinen M. , Singkarat S. , Whitlow H.J. . (2554). Direct writing of channels for microfluidics in silica by MeV ion beam lithography.
เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ . Puttaraksa N. , Napari M. , Chienthavorn O. , Norarat R. , Sajavaara T. , Laitinen M. , Singkarat S. , Whitlow H.J. . 2554. "Direct writing of channels for microfluidics in silica by MeV ion beam lithography".
เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ . Puttaraksa N. , Napari M. , Chienthavorn O. , Norarat R. , Sajavaara T. , Laitinen M. , Singkarat S. , Whitlow H.J. . "Direct writing of channels for microfluidics in silica by MeV ion beam lithography."
เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ , 2554. Print. Puttaraksa N. , Napari M. , Chienthavorn O. , Norarat R. , Sajavaara T. , Laitinen M. , Singkarat S. , Whitlow H.J. . Direct writing of channels for microfluidics in silica by MeV ion beam lithography. เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ ; 2554.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
