| ชื่อเรื่อง | : | การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6 นิ้ว ด้วยวิธีการหมุนเคลือบโดยใช้เทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ |
| นักวิจัย | : | นิธิ อัตถิ , รติพร มั่นพรหม |
| คำค้น | : | กระจกต้นแบบ , การหมุนเคลือบ , น้ำยาไวแสง , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ , แบบลายวงจร |
| หน่วยงาน | : | สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2549 |
| อ้างอิง | : | http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/11119 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | งานวิจัยนี้ศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการเคลือบน้ำยาไวแสงชนิดบวก เบอร์ Shipley S1805 ด้วยวิธีการหมุนเคลือบบนกระจกต้นแบบขนาด 6 นิ้ว โดยตัวแปรที่มีผลต่อความหนาและความสม่ำเสมอของชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงที่ศึกษามี 8 ตัวแปร ซึ่งใช้วิธีการออกแบบการทดลองด้วยวิธีทากูชิแบบ L27 ทำให้ลดจำนวนการทดลองลงได้จาก 6561 การทดลอง เหลือเพียง 54 การทดลอง จากนั้นศึกษาความสำคัญของตัวแปรที่มีผลต่อความหนาและความสม่ำเสมอของชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสง รวมถึงการหาเงื่อนไขที่เหมาะสมสำหรับกระบวนการผลิตโดยใช้วิธีการวิเคราะห์ความแปรปรวน (ANOVA) พบว่า อัตราการจ่ายน้ำยาไวแสง, ความเร็วรอบสูง และความเร่งในการหมุนเคลือบเป็นตัวแปรที่มีความสำคัญต่อทั้งความหนาและความสม่ำเสมอของชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสง จากนั้นใช้การคำนวณ Signal-to-noise ratio แล้วนำข้อมูลมาสร้างกราฟ main effect เพื่อหาเงื่อนไขที่เหมาะสมที่สุดในการหมุนเคลือบชั้นฟิล์มฯ คือ จ่ายน้ำยาไวแสงเป็นเวลา 4.5 วินาที จากนั้นหมุนชิ้นงานที่ความเร็วรอบต่ำ 800 รอบต่อนาที แล้วใช้ความเร่งในการหมุนเคลือบ 500 rpm ต่อวินาที ไปที่ความเร็วรอบสูง 2000 รอบต่อนาที โดยใช้เวลาในการหมุน 90 วินาที ที่อัตราการดูดไอเสีย 300 ปาสคาล แล้วอบชิ้นงานที่อุณหภูมิ 100 องศาเซสเซียส เป็นเวลา 90 วินาที จากนั้นนำเงื่อนไขที่ดีที่สุดไปพยากรณ์ค่าความหนาและความสม่ำเสมอของชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสง คือ 5311 อังสตรอม และ 56 อังสตรอม ตามลำดับ |
| บรรณานุกรม | : |
นิธิ อัตถิ , รติพร มั่นพรหม . (2549). การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6 นิ้ว ด้วยวิธีการหมุนเคลือบโดยใช้เทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ.
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. นิธิ อัตถิ , รติพร มั่นพรหม . 2549. "การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6 นิ้ว ด้วยวิธีการหมุนเคลือบโดยใช้เทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ".
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. นิธิ อัตถิ , รติพร มั่นพรหม . "การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6 นิ้ว ด้วยวิธีการหมุนเคลือบโดยใช้เทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ."
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2549. Print. นิธิ อัตถิ , รติพร มั่นพรหม . การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6 นิ้ว ด้วยวิธีการหมุนเคลือบโดยใช้เทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2549.
|
