การเคลือบฟิล์มบางเป็นเทคโนโลยีพื้นฐานที่มี ความสำคัญต่อการพัฒนาของอุตสาหกรรมเป็นอย่างมาก ทุกวันนี้การวิจัยและพัฒนาทางวัสดุ โดยเฉพาะการเคลือบ multifunctional thin film นับว่ามีความสำคัญมากขึ้นอย่างเห็นได้ชัด ฟิล์มบางของตัวเร่งปฏิกิริยาไวแสง (photocatalytic thin film) นับเป็นสาขาหนึ่งที่มีความตื่นตัวอย่างมากทั้งในวงการวิจัยและอุตสาหกรรมในช่วงเวลา 5ปีที่ผ่านมา ฟิล์มบางของตัวเร่งปฏิกิริยาไวแสงมีคุณสมบัติที่เป็นที่ต้องการหลายอย่าง เช่น การทำความสะอาดผิวด้วยตัวเอง และการฆ่าเชื้อด้วยตัวเอง การเลือกวิธีเคลือบที่เหมาะสมนั้นขึ้นอยู่กับ applications ที่จะนำไปประยุกต์ใช้ เช่น การเตรียมฟิล์มภายใต้ความดันปกติมีข้อดีคือ ราคาถูกแต่คูณภาพของฟิล์มนั้นไม่ดีเท่ากับการเคลือบในสุญญากาศ คณะผู้วิจัยเห็นว่าการพัฒนาเทคโนโลยีการเคลือบทั้งสองแบบควบคู่กันไปนั้น เป็นประโยชน์และ efficient เนื่องจากสามารถนำความเข้าใจทางด้านวัสดุไปต่อยอดในเทคโนโลยีการเคลือบฟิล์ม ที่เหมาะสมกับกลุ่มอุตสาหกรรมเป้าหมาย ในข้อเสนอโครงการฉบับนี้มุ่งที่การเตรียมฟิล์มบางของตัวเร่งปฏิกิริยาไวแสง 2 วิธีคือ การเตรียมฟิล์มโดยใช้สารละลายเป็นสารตั้งต้นโดยสร้างฟิล์มภายใต้ความดัน อากาศปกติ เช่นการเคลือบแบบ dip coating, Spray pyrolysis และ การเคลือบแบบCVD และเทคโนโลยีแบบที่สองคือการเคลือบฟิล์มในสุญญากาศแบบsputtering การวิจัยและพัฒนาการเคลือบฟิล์มบางแบบ sputtering มุ่งสำหรับ applications ในด้าน architecture และ optics ส่วนการวิจัยและพัฒนาการเคลือบภายใต้ความดันปกตินั้นมุ่งสำหรับ applications ทางด้านอาหารและการเกษตร นอกจากนั้นโครงการนี้ยังมุ่งที่จะพัฒนาเทคนิคการเคลือบวิธีใหม่ การเคลือบบนพื้นผิวอื่นนอกเหนือจากกระจกและแก้ว รวมไปถึงการค้นคว้าวิจัยวัสดุเร่งปฏิกิริยาไวแสงชนิดใหม่ โครงการนี้นับเป็นการเชื่อมความรู้ทางด้าน Photocatalytic materials เข้ากับ Thin film coating technology เพื่อนำไปสู่การพัฒนาแบบต่อยอด ที่มีเป้าหมายในการส่งเสริมและสนับสนุนอุตสาหกรรมที่เกี่ยวข้องดังกล่าวข้างต้น