งานวิจัยนี้เป็นการกราฟต์สารกรองรังสีอัลตราไวโอเลต (ยูวี) เมธอกซีซินนามิกแอซิดบนซิลิโคน เพื่อสร้างพอลีเมอร์ที่สามารถกรองรังสียูวี โดยมีการกราฟต์สารกรองรังสียูวีบนซิลิโคน 2 ชนิดได้แก่ (6-7%) แอมมิโนโพรพิลเมธิลไซลอกเซน ไดเมธิลไซลอกเซนโคพอลิเมอร์ และ พอลีเมธิลไฮโดรเจนไซลอกเซน ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากการกราฟต์บนแอมิโนซิลิโคนได้แก่ 3-พาราเมธอกซีซินนามิโดโพรพิลเมธิล ไดเมธิลไซลอกเซน โคพอลิเมอร์(~bG-AS~b) ซึ่งสามารถดูดกลืนแสงในช่วงรังสียูวีบีได้ และเมื่อศึกษาความเสถียรหลังการดูดกลืนแสงของสารนี้พบว่ามีความเสถียรมากกว่าสารกรองรังสียูวีอิสระ ออกธิลเมธอกซีซินนาเมท ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากการกราฟต์ 10% เมธอกซีซินนาเมทบนเมธิลไฮโดรเจนไซลอกเซนนั้น ได้แก่ พอลี[เมธิล ออกธิล เมธิล โพรพิล-4-เมธอกซีซินนาเมท ไซลอกเซน](~bG-MHS~b) ซึ่งสามารถดูดกลืนรังสีในช่วงยูวีบี และมีความเสถียรหลังจากดูดกลืนรังสียูวีบีด้วยเช่นกัน นอกจากนี้การดูดซึมผ่านผิวหนังมนุษย์ของผลิตภัณฑ์ทั้งสองยังน้อยมากเมื่อเทียบกับสารกรองรังสียูวีบี ออกธิล เมธอกซีซินนาเมท ผลิตภัณฑ์ที่ได้นี้จึงสามารถแก้ปัญหาเรื่องการดูดซึมของสารกรองรังสียูวีเข้าสู่ร่างกายมนุษย์ดี ซึ่งสารเหล่านี้สามารถพัฒนาไปเป็นสารกรองรังสียูวีในเครื่องสำอางต่าง ๆ ได้