การสังเคราะห์บีดพอลิเมอร์หลายชั้นพอลิไดเมทิลอะมิโนเอทิลเมทาคริเลต-~iโค~i-สไตรีน/พอลิเมทาคริเลต/พอลิสไตรีน [P(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA/PST] แบบใหม่ 3 ชนิดที่มีสมบัติการกระเจิงแสงอัลตราไวโอเลต โดยปฏิกิริยาซีดเดตอิมัลชันพอลิเมอไรเซชันซึ่งประกอบด้วย 3 ขั้นตอน คือ การเตรียม P(DMAEMA-~ico~i-ST) ด้วยปฏิกิริยาอิมัลชันพอลิเมอไรเซชัน โดยใช้ซิทิลไทเมทิลแอมโมเนียมคลอไรด์ (CTAC) เป็นสารลดแรงตึงผิว ซึ่งพบว่าขนาดอนุภาค P(DMAEMA-co-ST) สามารถควบคุมได้ด้วยตัวแปรความเข้มข้นของ CTAC และ 2,2'-เอโซบีส(2-อะมิไดโนโพเพน)ไดไฮโดรคลอริกแอซิด (V-50) จากนั้นเติมมอนอเมอร์เมทิลเมทาคริเลตลงในซีด (P(DMAEM-~ico~i-ST) ด้วยวิธีการหยด ซึ่งพบว่าชนิดของสารริเริ่ม (V-50 และโพแทสเซียมเพอร์ซัลเฟต) เป็นตัวแปรสำคัญต่อโครงสร้างของอนุภาคเชิงซ้อน (P(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA คือเมื่อใช้ V-50 เป็นสารริเริ่มอนุภาคเชิงซ้อน P(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA มีลักษณะแบ่งครึ่งและถูกหุ้มด้วยเฟสP(DMAEMA-~ico~i-ST) ในขณะที่เฟส P(DMAEMA-~ico~i-ST) กระจายในเฟส PMMA ซึ่งเคลื่อนจากผิวเข้าสู่ภายในอนุภาค เมื่อใช้โพแทสเซียมเพอร์ซัลเฟตเป็นสารริเริ่ม และขั้นตอนสุดท้ายการเตรียมอนุภาคเชิงซ้อน P(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA/PST ด้วยปฏิกิริยาซีดเดตอิมัลชันพอลิเมอไรเซชัน โดยใช้ซีดพอลิเมอร์ที่เตรียมได้จากขั้นตอนที่แล้วและใช้สไตรีนเป็นมอนอเมอร์ ซึ่งพบว่าอนุภาค P(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA ถูกหุ้มด้วยชั้นพอลิสไตรีน เมื่อใช้อนุภาคเชิงซ้อน P(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA ที่มีน้ำหนักโมเลกุลสูงในขณะที่พอลิสไตรีนถูกหุ้มด้วย P(DMAEMA-~ico~i-ST) เป็นแกนภายใน ถูกหุ้มด้วยพอลิเมทิลเมทาคริเลตที่เคลื่อนที่ออกมาที่ผิวอนุภาค เมื่อใช้อนุภาคเชิงซ้อนP(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA ที่มีน้ำหนักโมเลกุลต่ำกว่า การเติมสารเชื่อมขวางในP(DMAEMA-~ico~i-ST) ไม่ส่งผลกระทบต่อโครงสร้างของพอลิเมอร์เชิงซ้อนและมีผลทำให้เกิดการรวมตัวกันเป็นก้อนในทุกขั้นตอน ค่าดรรชนีหักเหของพอลิเมอร์เชิงซ้อนP(DMAEMA-~ico~i-ST)/PMMA/PST ขึ้นอยู่กับโครงสร้างและขนาดอนุภาค โครงสร้างที่เหมาะสมของพอลิเมอร์เชิงซ้อนที่มีสมบัติการกระเจิงแสงอัลตราไวโอเลตประกอบด้วยแกนพอลิเมทราคริเลต ที่มี P(DMAEMA-~ico~i-ST) เม็ดเล็กกระจายและถูกหุ้มด้วยขั้นพอลิสไตรีน ซึ่งสามารถสะท้อนแสงกลับได้ร้อยละ 7.51 (ค่าดรรชนีหักเห=1.755)