| ชื่อเรื่อง | : | สภาวะที่เหมาะสมของผิวเคลือบโมลิบดินัมไนไตรด์ด้วยกระบวนการอาร์.เอฟ. รีแอคทีฟสปัตเตอริง |
| นักวิจัย | : | ดลธรรม เอฬกานนท์ , ปริญญา ศรีสัตยกุล |
| คำค้น | : | - |
| หน่วยงาน | : | วิศวกรรมศาสตร์ |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2557 |
| อ้างอิง | : | - |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | สมบัติทางกลบนผิวเคลือบด้วยเทคโนโลยีฟิล์มบางมีความสำคัญมากต่อการนำไปใช้ในงานอุตสาหกรรม ได้แก่ สมบัติด้านความแข็ง และสมบัติด้านความหยาบผิว เป็นต้น โมลิบดินัม (Mo) ถูกนำมาใช้กับงานอุตสาหกรรมอย่างแพร่หลายในงานด้านการหล่อลื่นในสภาวะที่อุณหภูมิสูง การควบคุมพารามิเตอร์ที่มีผลต่อคุณภาพผิวเคลือบโมลิบดินัมไนไตรด์ (MoN) นั้น เป็นการปรับปรุงอย่างมีระบบที่สามารถยืนยันความถูกต้องเกี่ยวกับผลกระทบของพารามิเตอร์ต่อกระบวนการเคลือบผิว MoN ด้วยวิธีการกระบวนการอาร์.เอฟ. รีแอคทีฟสปัตเตอริงโดยการออกแบบการทดลอง พารามิเตอร์ทั้ง 3 ในกระบวนการเคลือบผิว MoN ได้แก่ กระแสไฟฟ้า, แรงดัน และอัตราส่วนระหว่างก๊าซอาร์กอนกับก๊าซไนโตรเจน พารามิเตอร์ต่างๆ เหล่านี้จะถูกนำมาวิเคราะห์เพื่อหาสภาวะที่เหมาะสมต่อค่าความแข็งสูงสุดและค่าความหาบผิวเฉลี่ย (Ra) น้อยที่สุด ภายหลังการดำเนินการทดลองเชิงสถิติ พบว่า พารามิเตอร์ทั้ง 3 มีผลกระทบต่อค่าความแข็งและค่า Ra บทสรุปงานวิจัยเกี่ยวกับสภาวะที่เหมาะสมของกระบวนการเคลือบผิว MoN ด้วยวิธีการกระบวนการอาร์.เอฟ. รีแอคทีฟสปัตเตอริงที่สามารถทำให้ได้มาซึ่งค่าความแข็งสูงสุดและค่า Ra น้อยที่สุด ได้แก่ กระแสไฟฟ้า (DC) ที่ 0.450 A, แรงดัน (Pressure) ที่ 0.010 mbar และอัตราส่วนระหว่างก๊าซอาร์กอนกับก๊าซอะเซทิลีน (Ar/C2H2) ที่ 0.50 |
| บรรณานุกรม | : |
ดลธรรม เอฬกานนท์ , ปริญญา ศรีสัตยกุล . . : ; .
|
