ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Characterization Of Ti/TiN/AlCu Film Stack Prepared By Physical Vapor Deposition

หน่วยงาน Universiti Sains Malaysia, Malaysia

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Characterization Of Ti/TiN/AlCu Film Stack Prepared By Physical Vapor Deposition
นักวิจัย : Leow, Mun Tyng
คำค้น : QC1 Physics (General)
หน่วยงาน : Universiti Sains Malaysia, Malaysia
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2555
อ้างอิง : http://eprints.usm.my/41945/1/LEOW_MUN_TYNG.pdf , Leow, Mun Tyng (2012) Characterization Of Ti/TiN/AlCu Film Stack Prepared By Physical Vapor Deposition. Masters thesis, Universiti Sains Malaysia.
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : http://ezproxy.usm.my/login?url=http ://ethesis.usm.my/jspui , http://eprints.usm.my/41945/
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Physical vapor deposition (PVD) method is widely used in semiconductor industry in metallic film deposition process. It has been found that the metallic film properties are influenced by the parameter change in the PVD sputtering machine. Ionized physical vapor deposition (I-PVD) came about when electronic devices shrink in sizes which increase the packing density of the device. This lead to higher aspect ratio of the via size and smaller interconnect lines of the integrated circuit. I-PVD sputtering method had successfully relieved the step coverage issues for high aspect ratio trenches and vias. In semiconductor industries, reliability surfaced as the major enemy.

บรรณานุกรม :
Leow, Mun Tyng . (2555). Characterization Of Ti/TiN/AlCu Film Stack Prepared By Physical Vapor Deposition.
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia.
Leow, Mun Tyng . 2555. "Characterization Of Ti/TiN/AlCu Film Stack Prepared By Physical Vapor Deposition".
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia.
Leow, Mun Tyng . "Characterization Of Ti/TiN/AlCu Film Stack Prepared By Physical Vapor Deposition."
    กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia, 2555. Print.
Leow, Mun Tyng . Characterization Of Ti/TiN/AlCu Film Stack Prepared By Physical Vapor Deposition. กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia; 2555.