| ชื่อเรื่อง | : | Formation of zro2 thin films by thermal oxidation of sputtered zr on si and sic substrates [TN1-997]. |
| นักวิจัย | : | Tedi, Kurniawan |
| คำค้น | : | TN1-997 Mining engineering. Metallurgy |
| หน่วยงาน | : | Universiti Sains Malaysia, Malaysia |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2552 |
| อ้างอิง | : | http://eprints.usm.my/15537/1/FORMATION_OF_ZrO2_THIN_FILMS.pdf , Tedi, Kurniawan (2009) Formation of zro2 thin films by thermal oxidation of sputtered zr on si and sic substrates [TN1-997]. Masters thesis, Universiti Sains Malaysia. |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | http://eprints.usm.my/15537/ |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | Lapisan nipis ZrO2 untuk aplikasi get dielektrik telah dibentuk di atas substrat Si dan SiC dengan menggunakan kombinasi proses pemercitan logam dan pengoksidaan haba. ZrO2 thin films for gate dielectric application has been formed on Si and SiC substrates using a combination of metal sputtering and thermal oxidation process. |
| บรรณานุกรม | : |
Tedi, Kurniawan . (2552). Formation of zro2 thin films by thermal oxidation of sputtered zr on si and sic substrates [TN1-997]..
กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia. Tedi, Kurniawan . 2552. "Formation of zro2 thin films by thermal oxidation of sputtered zr on si and sic substrates [TN1-997].".
กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia. Tedi, Kurniawan . "Formation of zro2 thin films by thermal oxidation of sputtered zr on si and sic substrates [TN1-997].."
กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia, 2552. Print. Tedi, Kurniawan . Formation of zro2 thin films by thermal oxidation of sputtered zr on si and sic substrates [TN1-997].. กรุงเทพมหานคร : Universiti Sains Malaysia, Malaysia; 2552.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
